Spin kaplama yöntemi son on yıldır katı yüzeyler üzerine polimer
kaplamada ve özelliklede mikro elektroniklerin üretiminde photoresist
depolamada en çok kullanılan tekniktir. Fikir oldukça basittir. Dakikada
binlerce dönüş yapan bir alt tabaka (alttaş) üzerine kaplama yapılmak
istenen maddenin çözeltisi dökülür. Merkezcil kuvvetin etkisi altında
çözelti tüm alttaş üzerine düzgün şekilde yayılır. Dönme esnasında
çözücünün uzaklaşmasıyla, yüzey kurur. Eğer ek olarak artan bir ısı
verilirse ince film alttaş üzerinde oluşturulmuş olur ancak filmin oluşması
için her durumda ısı vermek gerekli değildir.
Sistemde kaplamanın
yapılacağı bölüm bir kapakla ortamdan yalıtılmıştır. Bu filmlerin tozdan
arındırılmış bir alanda kaplanmasına izin vermektedir. Ön tarafta
görülmekte olan kontrol paneli yardımıyla dönüş hızı veya süresini
ayarlamak için komutlar verilebilmektedir. Sistem bilgisayar destekli
olduğundan aynı işlemler bilgisayardan da yapılabilmektedir.
